当社は、2026年5月11日(月)～15日(金)に大阪国際会議場（グランキューブ大阪）で開催された、「第10回粉体工学世界会議 WCPT 2026 OSAKA HJAPAN 」に出展いたしました。

本展示では、粉体・粒子の生成・加工・計測・応用に至るまでの幅広い技術領域を対象に、世界最先端の研究成果と産業技術が紹介されました。ナノ材料、エネルギー、医薬、環境分野など多様な産業に関連する技術が一堂に会し、粒子技術の未来を体感できる場となりました。

弊社ブースでは、「BLASE X 」「BLASE Micro」を展示し、ウルトラファインバブルからマイクロバブルまでの幅広い粒径領域に対応した計測・評価ソリューションをご紹介いたしました。粒径分布および個数濃度の同時評価に加え、低濃度領域における粒子・バブルの“見える化”を実現する独自技術をご体感いただき、多くの方にご関心をお寄せいただきました。

■会期・会場・会期：2026年5月11日(月)～5月15日(金)・会場：大阪国際会議場（グランキューブ大阪）10F 会議室1001+1002+1003 ・ブース番号：16

本展示では、従来の計測技術では評価が難しかった低濃度領域（1万～1000万個/mL）の“見える化”を実現する独自技術についてご紹介いたしました。ウルトラファインバブルは粒径・濃度の分布が広く、特に低濃度域における安定した評価が課題とされてきましたが、「BLASE Series 」ではシート状レーザーによる広い観測体積の確保と、標準粒子による校正に基づく条件設計により、安定した測定を可能としています。

当日は、弊社ブースにて「BLASE X 」「BLASE Micro」を展示し、それぞれの特長や活用方法についてご紹介いたしました。研究開発から品質管理まで、幅広い用途でのご活用イメージをご覧いただき、多くの方にご関心をお寄せいただきました。

ご来場いただきました皆様、誠にありがとうございました。